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全球光刻競賽升溫,ASML壟斷地位受挑戰

全球縮影   2026/05/25

(1)現象:荷蘭駐南韓大使Peter van der Vliet近日表示,全球各國正同步投入下一代光刻技術研發,半導體設備競賽已全面升溫,並強調這並非單獨針對中國,而是全球科技產業正常的技術競爭。在AI需求快速爆發下,ASML之外的荷蘭半導體設備供應鏈也積極擴張,包括專攻電漿增強原子層沉積技術的設備廠,已在南韓華城完成新產線與研發基地擴建,顯示全球半導體設備供應鏈正進入新一輪投資週期。

(2)原因:AI伺服器、高效能運算與HBM需求爆發,推動晶片製程持續微縮,也讓光刻、沉積、量測與先進封裝設備的重要性大幅提升。過去ASML幾乎壟斷EUV光刻設備市場,但隨著美中科技戰升級,各國開始加速布局替代技術與自主供應鏈,包含光子技術、新型封裝與下一代光刻架構。然而美國近期擬進一步限制DUV設備出口至中國,也讓中國加速自研光刻設備與材料體系,對此ASML執行長更公開警告,過度限制反而可能刺激中國建立完整自主替代方案。另一方面,荷蘭與南韓正深化設備、科研與人才合作,代表全球半導體競爭已從單一企業競爭,升級為國家級科技聯盟與供應鏈整合競賽。

(3)影響:全球半導體設備產業將進一步朝「多極化」發展,未來除了ASML外,日本、美國、南韓甚至中國本土設備商,都可能在部分技術領域取得突破。隨著AI晶片持續推升先進製程需求,EUV、DUV、ALD沉積、先進封裝與光子傳輸技術的重要性同步上升,全球晶圓廠資本支出可望維持高檔。同時,光子技術被視為下一代低功耗高速運算關鍵,未來不僅將應用於資料中心,也可能延伸至AI伺服器、高速交換器與矽光子通訊領域。不過,地緣政治與出口管制仍是產業最大變數。若美國持續擴大設備限制,全球半導體供應鏈可能進一步分裂,帶動各國加速建立自主製造能力與區域化供應鏈。

(4)受影響股票:家登(3680)

帆宣(6196)

公準(3178)

京鼎(5341)

意德士(7556)

閎康(3587)

致茂(2360)

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