【時報-台北電】中國大陸自主研發的曝光機再傳新進展。上海微電子裝備（集團）股份有限公司（簡稱SMEE）自主研發的新一代前道乾式掃描投影曝光機SSC800、SSB800模型，在第九屆中國國際進口博覽會中國館正式亮相，展示初中國大陸前道曝光機自主化的階段性成果。

　綜合陸媒報導，按半導體製造工序區分，曝光設備可分為前道與後道兩類。前道曝光機主要用於晶圓製造，後道曝光機則用於晶圓切割後的封裝製程，設備精度及價值均低於前道設備。

　SMEE表示，此次展出的模型採透明剖視設計，可直觀呈現整機光學光路及內部機電系統的配置。該平台為大陸國產標準化前道曝光設備架構，適用於I-line、KrF兩種主流技術路線。

　整機核心的高精度物鏡與照明系統、高速雙工作台與掩模台、一體化自動物料傳輸系統，以及高精度對準調平感測系統，均已經實現全鏈條自主可控，具備穩定的製程適配能力及產線運作可靠性。

　SMEE成立於2002年，是大陸唯一具備前道乾式曝光機穩定量產及交付能力的製造商，也是大陸前道曝光設備自主供應體系的核心企業。

　據了解，目前中國大陸國產前道乾式曝光機的成像性能已經與國際同類領先產品相當，套刻精度以及生產效率也持續追趕國際標竿。

　此外，中國大陸也積極推動浸潤式深紫外光（DUV）及極紫外光（EUV）曝光技術研發。路透今年7月報導，大陸已開始生產自主研發的浸潤式DUV曝光機，由上海愛晟納電子科技主導，規劃2026年生產約5台，2027年提高至20台。

　另，大陸首台全國產EUV曝光機原型機7月傳出在深圳正式啟動。不過，相關設備仍須進一步驗證，與國際領先產品在性能及可靠性方面仍有差距。(新聞來源 : 工商時報一張漢驊／綜合報導)