【時報-台北電】據觀察者網報導，大陸新一代光刻機模型亮相進博會，關鍵零部件國產化率突破90％，已定型並規模化量產。上海微電子裝備集團（SMEE）在11月5日至10日於上海舉行的第九屆中國國際進口博覽會中國館，展出自主研發的新一代前道乾式掃描投影光刻機SSC800、SSB800模型，展示大陸前道光刻裝備自主化的階段性成果。

SMEE微信公眾號發文介紹，模型採透明剖視設計，直觀呈現整機光學光路與內部機電系統的鏈路佈局；該平台為國產標準化前道光刻裝備架構，適配I-line、KrF兩類主流技術路線。

光刻機是晶片製造的核心設備，負責把電路圖案「印」到矽片上。所謂「前道」，指的是晶片製造最前段、最核心的工序；「乾式」則與浸潤式相對。這次亮相的SSC800、SSB800模型，屬於前道乾式掃描投影光刻機，適配I-line、KrF兩類主流技術路線。

SMEE介紹，整機核心的高精度物鏡與照明系統、高速雙工件台與掩模台、一體化自動物料傳輸系統、高精度對準調平傳感系統，均實現全鏈條自主可控，具備穩定的工藝適配能力與產線運行可靠性。

簡單說，就是從鏡頭、光源、工作台到物料傳輸與對準感測，關鍵環節不靠外部供應。原文未提及具體供應商或技術參數。

據悉，目前大陸國產前道乾式光刻機成像性能已與國際同類領先產品水平相當，套刻精度、生產效率緊密追趕國際標桿。在售的SSC800系列KrF與SSB800系列I-line機型，基於自研雙工件台平台，均搭載國產自主大NA物鏡，關鍵曝光成像指標對標國際標桿；SSC800整體性能躋身行業第一梯隊。(新聞來源：中時即時 藍孝威)