【時報記者林資傑台北報導】特用化學材料廠新應材(4749)今（17）日以每股480元轉上櫃掛牌，開盤即以大漲36.88％的657元開出，隨後漲勢進一步擴大，最高飆漲43.33％至688元，早盤維持逾42％漲勢，上櫃蜜月行情超甜蜜。以盤中高點計算，抽中1張等同現賺20.4萬元、報酬率達42.2％。

新應材上櫃前現增發行新股1萬286張、對外承銷9257張，其中7406張以底價410.26元競拍、得標均價587.07元。加計過額配售後，1851張新股以480元公開申購，吸引逾13.31萬人參與，中籤率僅1.39％。

新應材2003年成立，以面板及半導體光學元件光阻材料起家，2018年轉型投入半導體先進製程，聚焦開發良率關鍵的微影（Lithography）特化材料，目前著重半導體先進微影製程、半導體光學元件製程、顯示器製程、Micro LED量子點材料等四大發展主軸。

新應材2024年自結合併營收33.21億元、年增達40.5％，連4年改寫歷史新高。前三季歸屬母公司稅後淨利5.24億元、年增達1.22倍，每股盈餘6.39元，均已提前改寫年度新高。其中，半導體營收占比已達78.5％、顯示器占比21.5％。

新應材董事長詹文雄表示，公司2019年迄今投入半導體的資本支出及研發費用合計已逾40億元，隨著2023年先進黃光微影材料獲晶圓代工客戶採用、3奈米製程正式量產，配合高雄廠一期正式量產助攻，規模經濟顯現帶動2024年營運顯著成長。

新應材主力產品為半導體先進製程光阻周邊的表面改質劑（Rinse），為微影製程良率關鍵材料，2024年前三季營收貢獻達69.8％。未來將持續朝奈米級微影特化材料發展，包括即將到來的2奈米及未來的1.4奈米製程關鍵材料，可有效提升先進微影製程終端應用良率。

展望後市，新應材將持續投入半導體微影製程的特化材料開發技術，提供客戶高品質的多元產品。目前除了以光阻週邊特化材料為發展基礎外，已成功開發深紫外光（DUV）光阻，可應用半導體微影製程及光學元件製程，目標成為首家半導體光阻本土供應商。

詹文雄表示，新應材去年前三季毛利率35.58％、營益率18.56％，雙創同期新高，公司目前仍在大量投資期，隨著規模經濟效益顯現，既有產品需求增加、新產品稼動率提升降低單位成本，看好將為公司帶來下一波成長動能，認為未來2～3年毛利率仍有很大改善空間。

新應材目前在桃園、台南、高雄設有生產基地，作為研發中心的桃園廠生產顯示器特化材料，台南廠及高雄廠均生產半導體特化材料、並於2023年同步展開二期擴建，其中台南廠二期預期今年完成驗證量產，高雄廠二期則預計今年春節後展開試產驗證。